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【3月2日(月)締切】キュレトリアル・ワークショップ(現代アート編)参加者募集!

2026.2.12(木)

グローバル・アート・プロフェッショナル育成プロジェクト
グローバル・アート・プロフェッショナル育成プロジェクト

森美術館では、文化庁の補助金により日本芸術文化振興会に設置された基金による「文化施設による高付加価値化機能強化支援事業」の一環として、日本を拠点に活動する中堅・若手キュレーターの育成を目的とした「グローバル・アート・プロフェッショナル育成プロジェクト」に取り組んでいます。

2026年度は現代アートのキュレーションに焦点を当て、中堅・若手のキュレーターや研究者を対象とするワークショップを2026年5月にシドニーと東京で開催します。世界的に活躍するキュレーター4名を講師に迎え、国際展(ビエンナーレ、トリエンナーレ等)や国際的な美術館での大型展覧会を企画・実施するために必要な知識や理論について学ぶとともに、国際展の企画公募への提出を想定した企画書の作成を通して実践的なキュレーションを学びます。また、国内外の専門家ネットワークの構築を図ることで、現代アート分野のキュレーションにおいて国際的に活躍できる人材の育成を目指します。皆さまのご応募をお待ちしております。

グローバル・アート・プロフェッショナル育成プロジェクト
キュレトリアル・ワークショップ(現代アート編)

日程
2026年5月25日(月)~31日(日)
会場
シドニーおよび東京
ワークショップ講師(予定)
ウンジー・ジュー(インディペンデントキュレーター)
キャロル・インホワ・ルー(盧迎華)(美術史家、キュレーター、北京インサイドアウト美術館ディレクター)
アドリアーノ・ペドロサ(サンパウロ美術館 アーティスティック・ディレクター)
片岡真実(森美術館 館長)
ウンジー・ジュー
ウンジー・ジュー
撮影:Vorrasi Studio
キャロル・インホワ・ルー
キャロル・インホワ・ルー
撮影:Ohno Ryusuke
アドリアーノ・ペドロサ
アドリアーノ・ペドロサ
撮影:Andrea Avezzù
Photo courtesy: La Biennale di Venezia
片岡真実
片岡真実
撮影:新津保建秀
ウンジー・ジュー
ウンジー・ジュー
撮影:Vorrasi Studio
キャロル・インホワ・ルー
キャロル・インホワ・ルー
アドリアーノ・ペドロサ
アドリアーノ・ペドロサ
Photo: Andrea Avezzù
Photo courtesy: La Biennale di Venezia
片岡真実
片岡真実
撮影:新津保建秀
募集人数
8名
応募条件
  1. 大学または大学院を卒業後、展覧会キュレーションの実務経験3年以上(博士後期課程在籍中の学生は応募可)、または同程度の実績を有する者
  2. 現代アートに関する展覧会を3つ以上キュレーションした経験があること
  3. ワークショップ開催前に実施予定の事前オンライン会合(2回程度の開催を予定)および期間中のすべてのプログラムに参加できること
  4. 国籍不問、ただし日本在住、もしくは日本を拠点に活動していること
  5. 英語での読み書き・コミュニケーションが円滑に取れること(ワークショップは英語で実施)
  6. 国際展や美術館での大型展覧会のキュレーションへの意欲があること
  7. 日常的に国内外の国際展を意欲的にリサーチしていること
  8. 講師陣と英語でキュレトリアルコンセプトを議論するための基礎知識(「参考文献リスト」を参照のこと)を有していること
    参考文献リスト:
    https://artplatform.go.jp/ja/reading-lists
    https://contents.artplatform.go.jp/wp-content/uploads/2023/03/APJ_Introductory_Readings.pdf
参加費
無料
選考方法
一次選考:書類審査
二次選考:オンライン面談(日・英で実施予定)
選考結果通知
一次選考結果は、2026年3月6日(金)までにメールでお知らせします
二次選考結果は、2026年3月18日(水)までにメールでお知らせします
応募締切
2026年3月2日(月)17:00(日本時間)
募集要項
こちら(PDF/3.13MB)
応募フォーム
こちら(Google Form)
※フォームへのアクセスは、Google アカウントへのログインが必要になります
※応募を予定されている方で、Google アカウントをお持ちでない方は、事務局( 、担当:土井・鈴木)までご連絡ください
お問い合わせ先
E-mail:  (株式会社AMCN、担当:土井、鈴木)
個人情報の扱いに関して
1. ご提出いただいた個人情報は、森ビル株式会社のプライバシーポリシーにもとづき、運営事務局の株式会社AMCNが管理いたします。ただし、グローバル・アート・プロフェッショナル育成プロジェクトは、次号に定める目的のために、森ビル株式会社およびその構成員、文化庁・独立行政法人日本芸術文化振興会およびその構成員、選考委員となる外部有識者との間で、応募書類に記載された申請者の氏名および生年月日、住所、連絡先、略歴等の個人情報について、共同して利用することがあります。申請者の個人情報については事務局が責任をもって管理いたします。

2. キュレトリアル・ワークショップ(現代アート編)に関して、森ビル株式会社および株式会社AMCNに対して提出された個人情報の利用目的は以下のとおりです
1)本事業参加者選考の審査のため
2)本事業の関係者が申請者、採択者に対して連絡をするため
3)本事業の報告書、ウェブサイト、メディア等において公表するため
4)本事業に関連する各種イベントの運営のため
5)本事業の事後評価のため
6)文化庁および独立行政法人日本芸術文化振興会による政策立案の参考とするため
7)文化庁および独立行政法人日本芸術文化振興会の他の事業に関する連絡のため
8)その他上記に付帯関連する事項のため

3. 森ビル株式会社のプライバシーポリシーは、以下のウェブサイトをご覧ください。
https://www.mori.co.jp/privacypolicy/

4. 文化庁の個人情報保護の取組については、以下のウェブサイトをご覧ください。
https://www.bunka.go.jp/shinsei_boshu/kojinjohohogo/index.html

5. 独立行政法人日本芸術文化振興会の個人情報保護の取組については、以下のウェブサイトをご覧ください。
https://www.ntj.jac.go.jp/about/individualinfo/

主催
森美術館
助成
文化芸術活動基盤強化基金(クリエイター等育成・文化施設高付加価値化支援事業)
独立行政法人日本芸術文化振興会
運営(事務局)
株式会社AMCN
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